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專業(yè)生產(chǎn)KT(凸腔)系列,KTA(凸腔矮泵)系列,KTD(凸腔低返油)系列高真空油擴(kuò)散泵、高真空油擴(kuò)散泵機(jī)組、DH系列多弧離子鍍膜機(jī)、磁控濺射鍍膜機(jī)、SDB系列水冷擋板和FDB系列低溫冷阱、GDQ系列高真空氣動(dòng)擋板閥、DDCY系列電磁壓差閥、QCF系列氣動(dòng)充氣閥以及形狀各異的高真空容器。
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真空鍍膜機(jī)鍍膜玻璃生產(chǎn)方法
真空鍍技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片（光盤）上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法最早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已
2014-10-23
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真空設(shè)備行業(yè)前景
真空設(shè)備制造產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究報(bào)告闡述了世界真空設(shè)備制造產(chǎn)業(yè)的發(fā)展歷程，分析了中國(guó)真空設(shè)備制造產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀與差距，開(kāi)創(chuàng)性地提出了“新型真空設(shè)備制造產(chǎn)業(yè)”及替代品產(chǎn)業(yè)概念，在此基礎(chǔ)上，從四個(gè)維度即“以人為本”、“科技創(chuàng)新”、“環(huán)境友好”和“面向未來(lái)”準(zhǔn)確地界定了“新型真空設(shè)備制造產(chǎn)業(yè)”及替代產(chǎn)品的內(nèi)涵。根據(jù)“新型真空設(shè)備制造產(chǎn)業(yè)”及替代品的評(píng)價(jià)體系和量化指標(biāo)體系，從全新的角度對(duì)中國(guó)真空設(shè)備制造產(chǎn)業(yè)發(fā)展進(jìn)行
2014-10-23
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真空設(shè)備真空泵的選擇依據(jù)
真空泵的兩個(gè)轉(zhuǎn)子是通過(guò)一對(duì)高精度齒輪來(lái)實(shí)現(xiàn)其相對(duì)同步運(yùn)轉(zhuǎn)的。主動(dòng)軸通過(guò)聯(lián)軸器與電機(jī)聯(lián)接。在傳動(dòng)結(jié)構(gòu)布置上主要有以下兩種：其一是電動(dòng)機(jī)與齒輪放在轉(zhuǎn)子的同一側(cè)。從動(dòng)轉(zhuǎn)子由電動(dòng)機(jī)端齒輪直接傳過(guò)去帶動(dòng)，這樣主動(dòng)轉(zhuǎn)子軸的扭轉(zhuǎn)變形小，則兩個(gè)轉(zhuǎn)子之間的間隙不會(huì)因主動(dòng)軸的扭轉(zhuǎn)變形大而改變，故使轉(zhuǎn)子之間的間隙在運(yùn)轉(zhuǎn)過(guò)程中均勻。當(dāng)使用一種泵不能滿足抽氣及真空要求時(shí)，需要幾種泵組合起來(lái)，互相補(bǔ)充才能滿足工藝要求。有的真
2014-10-20
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真空腔室的模塊化設(shè)計(jì)和加工
該設(shè)備屬生產(chǎn)設(shè)備，主要功能包括：鈦/鋯磁控濺射鍍裝飾膜，反應(yīng)膜、復(fù)合膜。其它功能還包括：行星旋轉(zhuǎn)基片臺(tái)、負(fù)偏壓輔助沉積、PLC+HMI真空自動(dòng)/手動(dòng)控制、水冷循環(huán)及斷水保護(hù)系統(tǒng)，預(yù)留多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)接口。真空腔室的模塊化設(shè)計(jì)和加工。通過(guò)此項(xiàng)技術(shù)提高了腔室設(shè)計(jì)和加工效率，提高了重大部件的加工質(zhì)量和互換性，縮短了整條線的交貨周期。使用高性能旋轉(zhuǎn)陰極和中頻電源，最大蒸發(fā)電流達(dá)到400A，大大提高生產(chǎn)效率及膜層性
2018-02-07
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